X射線熒光分析儀技術(shù)特點(diǎn)介紹：
 

　　1、X射線熒光分析儀在測(cè)定微量成分時(shí)，由于X射線管的連續(xù)X射線所產(chǎn)生的散射線會(huì)產(chǎn)生較大的背景，致使目標(biāo)峰的觀測(cè)比較困難。為了降低或消除背景和特征譜線等的散射X射線對(duì)高靈敏度分析的影響，此熒光分析儀配置了4種可自動(dòng)切換的濾光片，有效地降低了背景和散射X射線的干擾，調(diào)整出*具感度的輻射，進(jìn)一步提高了S/N的比值，從而可以進(jìn)行更高靈敏度的微量分析。

 

　　2、X射線管的連續(xù)X射線所產(chǎn)生的散射線會(huì)產(chǎn)生較大的背景，軟件可自動(dòng)過濾背景對(duì)分析結(jié)果的干擾，從而能確保對(duì)任何塑料樣品的進(jìn)行快速準(zhǔn)確的分析。
 

　　3、當(dāng)某些元素的電子由高等級(jí)向低等級(jí)越遷時(shí)釋放的能量相近，會(huì)使此時(shí)譜圖的波峰重疊在一起，由此產(chǎn)生了重疊峰。自行開發(fā)的軟件自動(dòng)剝離重疊峰，確保了元素分析的正確性。
 

　　4、逃逸峰：由于采用的是Si針半導(dǎo)體探測(cè)器，因此當(dāng)X射線熒光在通過探測(cè)器的時(shí)候，如果某種元素的含量較高(能量也會(huì)相應(yīng)的較高)，其被Si吸收的概率也就越大。此時(shí)，光譜圖中在該元素的能量值減去Si能量值的地方回產(chǎn)生一個(gè)峰，此峰即為逃逸峰。
 

　　5、在電壓不穩(wěn)的情況下，可對(duì)掃描譜圖的漂移進(jìn)行自動(dòng)追蹤補(bǔ)償。